深紫外滤光片是指能在深紫外波段（通常为100nm-200nm左右）对光进行选择性透过或阻挡的光学器件。
确保光源的单色性
- 光刻技术需要特定波长的光源来实现高精度的图案转移，深紫外滤光片能够从复杂的光源光谱中筛选出特定波长的深紫外光。以ArF准分子激光器为例，其发出的光包含多种波长成分，深紫外滤光片可将其中193nm的深紫外光高效透过，同时截止其他波长的光，为光刻提供高度单色的光源，有助于提高光刻分辨率，实现更小尺寸的芯片制造。
提高光刻分辨率
- 根据瑞利判据，光刻分辨率与光源波长密切相关，波长越短，分辨率越高。深紫外滤光片选取的短波长深紫外光，能够使光刻系统达到更高的分辨率，从而能够在芯片上制造出更精细的电路图案，如157nm的波长比常用的193nm波长更短，使用157nm深紫外滤光片可使光刻系统达到更高的分辨率，从而能够在芯片上制造出更精细的电路图案，满足先进芯片制造对更小线宽和更高集成度的要求。
增强光刻对比度
- 深紫外滤光片通过截止杂散光，减少了非目标波长光线对光刻图案的干扰，从而提高了光刻图像的对比度。高对比度的光刻图像有助于清晰地定义芯片上的各种结构，减少图案边缘的模糊和失真，提高芯片制造的良品率。
保护光学元件
- 深紫外滤光片可以阻挡光源中可能对光刻系统中光学元件造成损伤的紫外波段以外的光线，如红外光和可见光。这些光线可能会引起光学元件的热效应和老化，影响其光学性能和使用寿命。通过滤除这些有害光线，深紫外滤光片有助于保护光学元件，维持光刻系统的稳定性和可靠性。
实现精确的曝光控制
- 在光刻过程中，精确控制曝光剂量对于形成准确的光刻图案至关重要。深紫外滤光片具有稳定的透过率特性，能够确保在不同的曝光时间和光强条件下，透过的深紫外光剂量保持一致，从而实现精确的曝光控制，保证光刻图案的一致性和重复性。
深紫外滤光片欢迎咨询中瑞先创，可定制波长200nm以下（如波长157nm）的紫外滤光片和深紫外滤光片 400-001-3352